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    技術文章/ article
    
        
     您的位置：首頁  -  技術文章  -  IS-POLISHER精密小型試樣研磨機ISPP-1000的特長介紹 
    
        
    
      
    
      
    
        	
    IS-POLISHER精密小型試樣研磨機ISPP-1000的特長介紹
    
            
    更新時間：2024-06-28      瀏覽次數：320
    
            
    
            	 

    日本IS-POLISHER精密小型試樣研磨機ISPP-1000的特長介紹
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    ISPP-1000是以研磨較小的試樣為目的而開發的，擅長于以電子顯微鏡為首的各種分析分析用的試樣研磨。

    特長
    CP用試樣的預處理研磨

    直接安裝橫截面拋光機離子銑削用的試料載置臺，備有可輕松形成研磨面直角的專用試料支架！

    僅用ISPP就能給出EBSD的晶體取向面
    通過研磨時間、研磨壓、速度、擺動動作的設定、獨的創的試樣保持、研磨量調整機構，可以進行對組織結構損傷較少的研磨。 
    另外，通過使用可選的配重消除器，可以進一步減輕試樣的負擔，將損傷抑制在最小限度。
    輕松實現高放大率的傾斜研磨
    在ISPP中，通過在試料支架上安裝可選的萬向調整器，可以通過2個微型單元在各個方向上最多調整6度，在整個圓周方向上調整
    傾斜角。 微分辨率相當于每存儲器0.02度。 為了得到高放大率的淺傾斜角也可以高精度地設定。
    半導體截面樣品制作又快又漂亮
    備有可以直接夾緊器件的結構的試料支架。 由此，不需要包埋處理的時間，可以實現壓倒性的分析TAT縮短。

    規格選項
    尺寸框體部
    ( w ) 205毫米×( d ) 225毫米×( h ) 155毫米
    10公斤
    設置空間( w ) 335mm×(D ) 260mm×(H ) 330mm
    除了突起部
    磨盤φ110mm
    電源AC100~240V
    50/60Hz
    65W(max )
    系統結構
    主體套件研磨機主體倒立光顯微鏡
    (物鏡10倍/目鏡20倍)
    廢液罐
    1個研磨盤
    交流適配器
    刀柄組件金屬材料用擺臂、配重塊
    平面用支架、標準支架
    半導體電子部件用擺臂、配重塊
    集成電路支架、標準支架*1
    選項物鏡4倍、20倍
    目鏡16倍、10倍*2
    顯微鏡用照相機單元PC用USB輸出型
    粗微動
    千分尺    		最小分辨率1μm
    磨盤SUS440C HRC55
    消耗品
    磨料耐水紙型600#、800#、1200#、1500#
    膠片類型D AO SC 1μm、3μm、5μm、9μm
    磨光型絨面革墊、尼龍墊(織布)
    鉆石輪電沉積/400#、800#
    樹脂/600#、800#
    金剛石漿料0.5μm、1μm、3μm (噴射式)
    膠體二氧化硅各種

    
            
    
         	
                                            
        
    
      
      
    
    
  
    

    

 



    
  
    
    
    
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