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    技術文章/ article
    
        
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    KLA Corporation FILMETRICS F30 系列 監控薄膜沉積，最的強的有力的工具
    
            
    更新時間：2024-04-13      瀏覽次數：303
    
            
    
            	 
    KLA Corporation FILMETRICS F30 系列 監控薄膜沉積，最的強的有力的工具
    在線厚度測量系統
    監測控制生產過程中移動薄膜厚度。高達100 Hz的采樣率可以在多個測量位置得到
    F30 系列

    監控薄膜沉積，最的強的有力的工具
    F30 光譜反射率系統能實時測量沉積率、沉積層厚度、光學常數 (n 和 k 值) 和半導體以及
    電介質層的均勻性。


    樣品層
    分子束外延和金屬有機化學氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的，或輕度吸收的薄膜。 這實
    際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導體材料。
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    各項優點:
    • 極大地提高生產力
    • 低成本 —幾個月就能收回成本
    • A精確 — 測量精度高于 ±1%
    • 快速 — 幾秒鐘完成測量
    • 非侵入式 — 完的全的沉積室以外進行測試
    • 易于使用 — 直觀的 Windows™ 軟件
    • 幾分鐘就能準備好的系統
    型號規格
    *取決于薄膜種類
    型號
    		厚度范圍*波長范圍
    F3015nm-70µm380-1050nm
    F30-EXR15nm - 250µm380-1700nm
    F30-NIR100nm - 250µm950-1700nm
    F30-UV3nm-40µm190-1100nm
    F30-UVX3nm - 250µm190-1700nm
    F30-XT0.2µm - 450µm1440-1690nm

    
            
    
         	
                                            
        
    
      
      
    
    
  
    

    

 



    
  
    
    
    
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